许多材料经过轧制、拉伸、挤压等变形过程，或者即使不经过变形，如凝固、PVD、CVD、热处理等，多晶体中的各晶粒呈现出或多或少的统计不均匀分布（取向几率分布不同）, 这种现象叫做择优取向，这种组织结构称之为织构。
织构的存在，将导致材料性能的各项异性，织构的存在，有时是有害的，比如加工过程中出现“制耳”；织构的存在，有时又是是有利的，比如钢板中如果形成大量的{111}面织构的话，材料的深冲压性能将大幅提高。因此，进行深入的织构研究，对新材料的研发、产品工艺控制有极大的指导意义。
现在的织构分析方法，以XRD和EBSD为主，两者各有优劣，很多时候两者往往结合使用：
XRD法制样简单、测量结果较为宏观；EBSD法制样复杂、测量结果较为微观，但EBSD可以给出直观给出晶体取向的分布。
若晶体样品中各晶粒呈现完全的随机取向，强度是均匀分布的，若晶体中存在织构，必将引起衍射强度发生起伏变化，这些强度变化就反应了晶粒取向在空间的不均匀分布。因此，只要测量出特定方向的衍射强度，进行极射赤面投影，即可得到极图；根据测量极图进行计算，即可得到反极图、ODF图、织构定量等信息。
XRD织构测量的样品要求：
样品表面平整（若表面太粗糙，可以先用机械研磨、后用电解抛光的方法，使试样表面平坦）；
样品面积不小于5×5毫米，最好10×10毫米以上；
反射法要求样品具有一定的厚度保证射线被完全吸收；
样品的晶粒尺寸不能太大，为保持统计性，光斑在样品表面的投影至少包含400个晶粒；
样品的元素组成最好不要有荧光产生；
通常需要一个无织构的粉末样品做散焦修正曲线。
XRD织构测量参数，如何选择？
1 光源靶材的选择：
选择原则：不同晶面2θ分的足够开，同时避免荧光X射线的干扰；
反射法：Cr、Fe、Co、Ni、Cu；
透射法：Mo、Ag。
2 极图数量：
立方晶系至少3个极图；
六方晶系至少5个极图；
样品对称性越低，极图的数量要求越多。
3 Chi轴或Psi轴：
Chi的步长通常选5度，0-75度。
4 Phi轴：
通常，0-360度， 5度/步；
对于高度对称性的样品，可以只测量0-90度。
5 其它轴：
对于晶粒比较大的样品，可以震荡X、Y轴使得光斑中的有效晶粒数目增加。
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