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集成电路设计学习笔记(二)基于IC617反相器设计之原理图绘制

集成电路设计学习笔记(二)基于IC617反相器设计之原理图绘制

作者: ccbirds | 来源:发表于2020-05-02 09:27 被阅读0次

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    本文主要记录在IC617中原理图的绘制和schematic的使用方法。


    新建library


    要画设计自己的集成电路,需要建一个自己的库,方便对自己设计文件的管理。

    打开library managerfileNEWLibrary

    image image

    选择库的保存路径,一般默认即可,并在name中填入自己库的名字。点ok

    image

    弹出Technology File for New Library 窗口,选择第三个Attach to an existing technology library ,点ok

    image

    选择smic18ee工艺库,点ok。在library manager中就可以看见自己的库了。

    image

    现在自己的库是空的,需要自己新建cell


    新建cell


    library managerfile菜单NEW选择cell View

    image

    Cell里填入自己cell的名字,在Type里选择schematic.点ok,弹出原理图绘制窗口。

    image

    反相器原理图绘制


    说一下常用快捷键

    快捷键 作用
    i 放置器件
    p 放置Pin
    l 加标签
    c 复制
    m 移动
    w 画电气线
    shift+x save&check
    q 查看与修改器件属性

    点原理图空白处,按快捷键i

    image

    弹出Add Instance 窗口,点Browes

    image

    会弹出library manager窗口,选择smic18ee的库并选择mosfets类,如果没有Category这一栏,在左上角Show Categories前面的方框里打勾。

    选择p33e2r,其中p代表PMOS,33代表3.3V电压,18代表1.8电压 ,50 代表5V电压,155代表15V电压 。NMOS的nz代表低阈值电压。我习惯用3.3V。大家可根据自己情况选择MOS。

    选中后,双击View栏的symbol

    image

    器件参数设置,在这里,我们需要修改LengthTotal Width,宽长可根据自己需要修改,也可不修改。我常设置Length为1u,可减小沟道长度调制效应,PMOS的宽长比是NMOS的2.5倍左右,因为PMOS是空穴导电,NMOS是电子导电。其他参数,会在后面需要的时候介绍。

    修改完成后,把鼠标放到原理图窗口,会有一个随鼠标动的MOS,选择一个位置,点一下,就可以放置了。

    image

    随后放置Nmos,

    image

    可以直接在Cell里,把p改成n就行。也可以按PMOS的选择方式,选择。

    image

    根据自己需要修改宽长比。找位置放置,放置完成后按esc

    image

    下面放置PIN,按快捷键p

    image

    弹出create Pin窗口,Names填入Pin的名字,Direction填入数据方向,Signal Type填入pin类型,这里一般不需要管,它会自己设置好的。放置四个pin。放置完成后,按ESC

    name direction
    out output
    in input
    vcc inputoutput
    gnd inputoutput

    放置完成如下图所示。

    image

    下面开始连线,按快捷键w,开始连线。要注意MOS衬底的连接。连接完成如下图所示。

    image

    按快捷键shift + x检查和保存。无错误,会在CIW中提示,保存完成。

    image

    下面我们来生成symbol,方便以后在其他设计中调取使用。选择create菜单,之后 依次选择cellviewfrom cellview

    image image

    不需要修改,点ok即可,

    image

    在上下左右放置pin,可根据自己需要修改放置位置,其他参数不需要修改。点ok。可得到下图的symbol,在library manager中也可看到。

    image image

    到这里,反相器的原理图绘制完成了。


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