【新闻内容】
[寰宇视野] 在全球科技浪潮中，三星公司以其卓越的科技实力，再次引领了半导体行业的新潮流。这一次，他们成功研发出世界上第一颗3nm芯片，这一突破性的成果不仅让业界瞩目，更是预示着科技新时代的到来。
【百科问题】
3nm芯片是说芯片有 3nm 大小吗？
在芯片制造领域，“XXnm”（纳米）通常指的是半导体制程技术中的一个特定节点。这个数字并不是指晶体管的实际尺寸，而是与晶体管的密度、性能和功耗有关的一个行业标准。
简单说，3nm意味着相比于更大尺寸的例如7nm，芯片的晶体管更小，速度更快，能耗表现更好。
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中国芯片最小制程节点（Xnm）是多少？
2023年9月，中国芯片行业取得了一项里程碑式的成就，成功突破了 7nm 制程技术。这一技术的突破在全球范围内产生了深远影响，使得包括荷兰和美国在内的许多国家对中国的科技实力感到震惊。
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芯片与光刻机的关系是什么？
光刻机是一种精密设备，用于将电路图案转移到硅片上，这一步骤是半导体芯片生产中最关键的工艺之一。
可以将光刻机理解为于照相机，它使用特定的光源通过掩模（含有电路图案的模板）照射到涂有光敏材料的硅片上。
硅片上被光照射的部分会发生化学变化，最终形成所需的电路图案。
光刻技术的发展直接影响芯片的制程水平和性能。随着技术进步，光刻机可以使用更短波长的光源，从而实现在同样大小的硅片上集成更多的晶体管，提高芯片的性能和降低功耗。
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中国光刻机发展
2002年，曾经荷兰ASML总裁放出豪言，表示就算给中国图纸，中国也造不出光刻机。就连台积电的创始人张忠谋都说：举国之力都造不出顶级芯片。
2007年上海微电子成立，造出了第一台光刻机。
2016年的时候，上海微电子193nm光源的90nm精度的干式光刻机实现全面量产。
2022年，中国成功开发了嵌入式光微探头超精密激光干涉仪。
2023年，哈尔滨工业大学公布了一项“高速超精密激光干涉仪”研发成果，并获得了首届“金燧奖”中国光电仪器品牌榜金奖，被一些人宣称解决了7nm以下的光刻机难题。
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