近日，中兴被美国禁运事件可谓是牵动了整个中国半导体行业的神经，一时间，网上各种角度、各种观点的分析文章都有，那么美国半导体业界人士是如何看待此次中兴被美国禁运事件的呢？
中兴通讯
1我们先了解长度单位
芯片内部结构，已经是以这个长度单位来计算了：纳米（nm)1毫米=1000微米 1毫米=1000000纳米。为什么要用到这么细小的结构呢，大点不行吗？越小，能耗越低，运算单位集成越多，速度越快，运算效率越高。
当然，我们如果没有这能力，我们就用砖头大小的手机，美国人用烟盒大小的手机，就这点区别。市场和消费者绝对追捧后者，拦不住，就这么简单！
光刻
2：如何实现加工
传统的加工刀具不可能这么细了，不可能抵达如此细微的空间，能用的加工手段只有两种：光刻和化学腐蚀。化学腐蚀不难实现，也都会了，难在光刻！
光刻难在设备的研制，需要高精度的镜面加工技术，还有光源的产生，和定位精度达到纳米级。在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50-90nm。超高的技术难度使得光刻机在全世界集成电路设备厂商中形成了极高的技术门槛，据了解，当今世界能够拥有这种技术、生产这种产品的只有两三个国家的两三家公司。以ASML 公司最先进的 EUV 光刻机为例，售价高达 1 亿美元，而且只有 ASML 能够生产。
在光刻机域，SMEE（中国公司） 取得了重要突破，并在先进封装光刻机产品方面形成了系列化和量产化，在国际同类产品中处于先进水平，还实现了光刻机海外市场的销售突破。SMEE 也被列入国家发改委 2016 年 1 月底公布的国家认定企业技术中心名单。
3：研发难度
综合来讲，确实有较大的技术难度，我国确实与美国存在较大的差距，一是芯片设计，二是光刻机，三是材料，四是人才。
但是，是不是克服不了呢？不见得！人才肯定不缺，而且知识层面，一群尖端人才坐桌子上开会，一凑合，知识层面很快就抵达最先进层面。接下来是实施，从设备研制，材料研制入手！
4
未来愿景
在可以预计的未来十年左右，华强北楼下出现了一群大妈，手提竹篮，上插标签：10元三斤，国际最先进移动AI忒片，走过路过，不要错过。一群城管在围撵这群大妈，烦死了烦死了！
要知道，这是在中国，万事皆有可能！
来源：悦商会 主编：文远 撰稿：古藏万一
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