一、分别求补码10011和11110的原码、反码、十进制数,并用补码求和。(2015)
二、化简具有约束项的逻辑函数,画出化简后的CMOS门电路。(2013)
给定约束项为
三、给出Reset,clk,D,Q的时序图,判断是同步还是异步清零,边沿触发还是电平触发,上升沿还是下降沿触发。
四、画出FF1和FF2的输出状态转移图或表,Z的输出序列。
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五、设计模六计数器,0-1-2-3-4-5-0-1-2-3-4-5-0。设计方案,状态转移图或表。画出电路图。
六、模电简答题
(1)基本放大电路类型________、________、_________。作为输出级_______。输入电阻最小的是________。放大倍数最大的是___________。
(2)某放大器闭环低频电压增益为10,当频率为1MHz时,增益为原来的7.07,求带宽增益积_____。
(3)集成电路级间采用______耦合,原因是_____。(还有的记不清了)
七、如图所示,各NMOS管的跨导均为,漏端输出电阻均为
(1)画出小信号等效模型。
(2)求小信号增益
(3)求带宽增益积GBW
八、已知放大器低频增益为,且由两个位于S平面负实轴的极点。
(1)画出幅度和相位的波特图。
(2)如果接成单位增益负反馈形式,是否会发生自激?说明理由。
九、已知理想放大器增益 闭环增益为
(1)求A变化10%时,的相对变化率
(2)求F变化10%时,的相对变化率
十、硅pn结二极管,已知:p区,n区
,截面积为。设p区和n区宽度远大于少子扩散长度(室温下)(2015)
(1)求T=300K时,正向电流等于1mA时的外加电压?
(2)要使正向电流从1mA增大到1.5mA,外加电压变化多少?
十一、均匀的n型Si样品,在左边用稳定的光照均匀产生电子空穴,产生率为,若样品足够长,求稳态时样品
两边的空穴浓度分布。(已知)(2011)
十二、金属n型mos系统,样品浓度金属功函数为4.2eV,半导体功函数为4.32ev,二氧化硅层正电荷密度为,均匀分布在靠近金属d/2的空间内。
(1)求平带电压
(2)求阈值电压
十三、NMOS器件,(2015)
(1)求W
(2)求
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