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2020清华832集成电路初试

2020清华832集成电路初试

作者: icfg66 | 来源:发表于2019-12-24 13:29 被阅读0次

一、分别求补码10011和11110的原码、反码、十进制数,并用补码求和。(2015)

二、化简具有约束项的逻辑函数,画出化简后的CMOS门电路。(2013)
Y=\overline{A} \overline{B}CD+\overline{A} B\overline{C}D+ABCD+A\overline{B} \overline{C}D+A\overline{B} C\overline{D}
给定约束项为
\overline{A} \overline{B}\overline{C}D+\overline{A} BCD+AB\overline{C} \overline{D}+AB\overline{C} D+ABC\overline{D} +A\overline{B} \overline{C}\overline{D}+A\overline{B}C D=0

三、给出Reset,clk,D,Q的时序图,判断是同步还是异步清零,边沿触发还是电平触发,上升沿还是下降沿触发。

四、画出FF1和FF2的输出状态转移图或表,Z的输出序列。


微信图片_20191224132703.jpg

五、设计模六计数器,0-1-2-3-4-5-0-1-2-3-4-5-0。设计方案,状态转移图或表。画出电路图。

六、模电简答题
(1)基本放大电路类型________、________、_________。作为输出级_______。输入电阻最小的是________。放大倍数最大的是___________。
(2)某放大器闭环低频电压增益为10,当频率为1MHz时,增益为原来的7.07,求带宽增益积_____。
(3)集成电路级间采用______耦合,原因是_____。(还有的记不清了)
七、如图所示,各NMOS管的跨导均为g_m,漏端输出电阻均为r_{ds}
(1)画出小信号等效模型。
(2)求小信号增益A_{dc}
(3)求带宽增益积GBW

微信图片_20191224130112.jpg

八、已知放大器低频增益为10^5,且由两个位于S平面负实轴的极点P_1,P_2,f_{p_1}=10kHz,f_{p_2}=100MHz
(1)画出幅度和相位的波特图。
(2)如果接成单位增益负反馈形式,是否会发生自激?说明理由。

九、已知理想放大器增益A=10^4,F=0.1 闭环增益为A_c
(1)求A变化10%时,A_c的相对变化率
(2)求F变化10%时,A_c的相对变化率

十、硅pn结二极管,已知:p区N_A=5\times 10^{18}cm^{-3},n区N_D=10^{16}cm^{-3}
\tau_n=\tau_p=1\mu s, \mu_p=420cm^2/Vs,\mu_n=1100cm^2/Vs,截面积为0.01cm^2。设p区和n区宽度远大于少子扩散长度(室温下n_i=1.5\times 10^{10}/cm^3)(2015)
(1)求T=300K时,正向电流等于1mA时的外加电压?
(2)要使正向电流从1mA增大到1.5mA,外加电压变化多少?
十一、均匀的n型Si样品,在左边用稳定的光照均匀产生电子空穴,产生率为g_0,若样品足够长,求稳态时样品
两边的空穴浓度分布。(已知p_0,\tau_{p0},L_p)(2011)

均匀照射.JPG

十二、金属n型mos系统,样品浓度N_D=10^{15}/cm^3,氧化层厚度:t_{ox}=0.2\mu m金属功函数为4.2eV,半导体功函数为4.32ev,二氧化硅层正电荷密度为10^{12}/cm^2,均匀分布在靠近金属d/2的空间内。

微信图片_20191224125406.jpg

(1)求平带电压V_{FB}
(2)求阈值电压V_T
十三、NMOS器件,L=1\mu m,C_{ox}=10^{-7}F/cm^2,\mu=600cm^2/Vs,V_T=0.6V(2015)
(1)V_{GS}=5V,I_{Dsat}=4mA求W
(2)V_{GS}=2V,V_{DS}=2VI_D

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