non- coronal radiation
C S Pitcher PPCF 1997
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- 提高等离子体边界辐射的另一个关键因素,是邻近的杂质源和迅速的离子输运。
- 事实上,边界杂质不总是在等离子体中足够的时间,达到日冕平衡。
- 在日冕平衡中,我们忽略如下辐射:Be>10eV,B>20eV,C>30eV,O>40eV。实验中测到这些离子在超过40eV时,在芯部边界和SOL有显著的辐射。
- 边界的杂质比他们在平衡中时有更多的电子,因此可以发现辐射水平显著提升。
- coronal平衡表示一种杂质的辐射最低水平。
- 用residence parameter 表示,为杂质在等离子体中的residence time
- 在30eV,低水平的日冕辐射功率会被提升接近1000倍。
- 这个提升随着杂质周期时间急剧下降,通过,下降30倍从峰值到
- residence parameter作为重要的弛豫时间,例如碳杂质辐射和无辐射的阈值。
- 使用这个重要的弛豫,我们可以估计芯部边界辐射区域的径向宽度,通过评估杂质输运的比率。
- Fig3,AUG中等密度欧姆放电,在芯部边界
- 使用上述参数,我们发现杂质停止辐射的时间是
- 辐射区域的径向扩展区域,例如芯部边缘辐射宽度(section3中定义),可以通过跨场扩散进行估算
- 假设,,和实验上观测的接近
- 由于在SOL中平行输运时间()对比跨场输运时间较短,跨场输运时间占主导
- 可以估计芯部边缘的辐射总量使用如下公式:
- ,是杂质密度,是辐射功率系数,是辐射区域的辐射体积。
- 对于低Z杂质,低温时更大。
- non-coronal辐射增加
- ,,periphery volume
- 带入数据,我们得到,这个估计只是近似的,他被用来证明杂质处于non-coronal equilibrim 时的增加。
- coronal radiation近似为,小两个量级
- 精确的杂质辐射估计,需要sophisticated code,例如B2-eirene
A simple model for divertor impurity radiation
equation(2)
- 推导一个简单的靠近偏滤器的杂质辐射的模型
- parallel electron heat conduction:
- q(x)是平行热流密度,在靠近挡板时会下降,由于体复合损失。是等离子体温度(能量单位)
- 是真空介电常数,是电子质量和电荷,respectively。是库伦对数
- Z是等离子体的有效电荷数,假设Z=1()
- 离子公式相同,假设,离子热传导小于电子热传导
equation(44)
- volumetric power loss due to impurity radiation
- 是杂质浓度,假设沿着SOL的为常数。
- 假设低于为零,高于为常数
- 联立equations(2)和equations(44),从上游到再循环入口积分
- (45)
- 是到达再循环入口的平行功率密度,为比阈值温度大多少,或者是再循环区域的温度,是上游电子和离子的总压强(常数)
- 假定是空间常数,定性理解平行热传导的体积辐射损失
- equation (45)两点问题
- 体积功率损耗,由于杂质辐射产生的与温度梯度相关。
- 实际上平行温度梯度在偏滤器附近变化剧烈,从而保证大部分辐射发生在靶板附近。
- 辐射损失显著依赖上游压强,主要是,因为相对不敏感
equation (5)
- 上游温度不依赖偏滤器状态,只微弱依赖经过SOL的功率密度和连接长度。
-
Fig12,简单模型预测的偏滤器辐射
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equation (4)
- (4)
-
是上游电子温度和功率密度(x=0)。是再循环区域入口的温度,假设和靶板温度相同。,(L为到偏滤器的连接长度)
- equation(4)近似有效,详细的计算表明,即使在高辐射流管的情况下,因为此时辐射倾向于局限在偏滤器区域,因为此区域密度提升。
(8)
- qP是电势功率,是每个入射离子的电势能。包括D的电离电势(13.6eV)和一半的氢分子结合能(2.2eV),~16eV(常数)。当体复合没有出现,电势能假设以热能的形式沉积在靶板上,当如何离子中性化,或者原子复合成分子。
equation (10)
- 功率dispersal最重要的参数是SOL的衰减长度。
- 衰减长度通过,猪等离子体的跨场热传导和到达偏滤器的平行热传导的比值决定
- (10)
- 是等离子体的表面积,是主半径,a为水平小半径,是elongation(=b/a),为反常跨场热传导系数(),为LCFS的径向温度的e-衰减长度。
接Fig12
- 杂质辐射计算
equation (33)
-
是杂质辐射导致的辐射损失,假设杂质辐射主要发生在偏滤器区域,不在循环区域,因此流经SOL的大部分flux tube是守恒的,当进入再循环区域降低
image.png- 假设杂质辐射发生在靠近偏滤器区域,在较大的平行温度区域。
- 对于AUG,主导的杂质是C,密度扫描含量近似为常数(0.02),和可视化韧致辐射测量一致(Zeff1.7)
- 模型使用此浓度,辐射系数
image.pngSOL等离子体状态Fig 8
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- 选择和实验结果符合,和Fig11的non-coronal 计算不一致。杂质辐射分散的计算由equation(45)决定
equation 45
- H辐射使用(26)
equation (26)
- (26)
- 是等离子体密度和温度的函数,假设为常数15eV.
- 总的D辐射相比杂质辐射是小的
接Fig12
- 模型可以再现,杂质辐射随密度迅速增加,和Fig8一致
- 简单的模型对于AUG数据出乎意料的好,但并非对所有数据都适用。(特别是假设沿着flux tube的杂质浓度不变)
- AUG符合较好,因为碳源主要是涌入的碳氢分子,进入放电在偏滤器和主舱室。
- 简单模型主要阐明,考虑热传导热源时,体功率损失的特性。
- 有助于理解有助于脱靶的状态。
- Fig13 L-mode,11MW NBI加热,JT-60U
- JT-60U主导杂质是碳,全碳装置。
- 和AUG结果相同,辐射增加迅速超过线性放电密度,碳氢化合物对辐射的贡献较小,主要的辐射是C IV,C II和C III的辐射烃辐射相当。
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