光刻化学品02 增粘剂 HMDS

定义：没有它，很容易脱胶哦

双(三甲基硅基)胺（又称六甲基二硅氮烷，或HMDS），分子式[(CH3)3Si]2NH。该物质是氨中两个氢原子被三甲基硅基取代的衍生物。六甲基二硅氮烷是一种无色液体，也是一种广泛应用于有机合成和有机金属化学反应重要试剂和主要成分。

光刻化学品02 增粘剂 HMDS

制备

六甲基二硅氮烷可由三甲基一氯硅烷与氨气反应制得:

2 (CH3)3SiCl + 3 NH3 → [(CH3)3Si]2NH + 2 NH4Cl

由于六甲基二硅氮烷会在潮湿空气中缓慢水解, 该反应通常应用真空技术进行.

六甲基二硅氮烷的碱金属化合物可由六甲基二硅氮烷去质子化制得. 例如六甲基二硅氮基锂(LiHMDS)可由六甲基二硅氮烷与丁基锂反应制取:

[(CH3)3Si]2NH + BuLi → [(CH3)3Si]2NLi + C4H10

六甲基二硅氮基钠(NaHMDS)、六甲基二硅氮基钾(KHMDS)和六甲基二硅氮基锂(LiHMDS)均为非亲核碱，是没有亲核性的碱。

作用

在光刻技术中, 六甲基二硅氮烷常被用作增加光刻胶表面附着能力的增粘剂。六甲基二硅氮烷在气态时用在加热过的底物上会得到最好的效果。