一直以来我国芯片大多都是依赖进口，很大程度上限制了国内科技的发展，自从经历了“中兴事件”之后，国人清醒的意识到没有核心技术，一旦遭受到制裁必将面临瘫痪，“中兴事件”为国人敲响了警钟，认清了落后就要挨打的事实，中国“造芯”已迫在眉睫，只有掌握核心技术才能在激烈的竞争战争中站稳脚跟，无惧封杀。
芯片的制造离不开光刻机，也是芯片制造的最核心设备之一，此前我国没有制造光刻机的能力，一直以来我国芯片行业受制于人，光刻机也只能依靠进口荷兰ASML的EVU光刻机来进行生产，时常遭遇国外卡脖子、禁售等个各种不公平制约。
国内芯片企业大多走的都是集成电路芯片设计路线，在自主生产制造高端芯片这一领域，几乎是“一片空白”，如今经过7年艰苦攻关，“超分辨光刻装备研制”通过验收，中科院光电技术研究所成功制造出世界上第一台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备，分辨率高达22纳米，可以制造出10纳米以下的芯片。
比起光刻机垄断巨头ASML，这台光刻机采用365纳米波长光源，具有紫外光是波长较长、成本低；而且这台国产光刻机，可以做到22纳米的工艺芯片，这世界上这个还是首例；这台光刻机的出现，以及超分辨光刻装备项目的顺利实施，标志着我国打破国外高科技垄断、设备禁运的，为我国芯片领域弯道超车提供了可能性。
同时也结束了我国长达近半个世纪光刻机一直都是被国外的巨头所垄断的现状，如今的中国终于自主研发出了属于自己的光刻机，打破了国外在高端光刻装备领域的垄断，为纳米光学加工提供了全新的解决途径，意味着我国在芯片集成电路芯片制造领域取得新突破，也为新一代信息技术、新材料、生物医疗等先进战略技术领域，基础前沿和国防安全提供了核心技术保障。
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