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2020-07-08-2000-H. Kastelewicz

2020-07-08-2000-H. Kastelewicz

作者: 锅炉工的自我修养 | 来源:发表于2020-07-09 21:31 被阅读0次

A Numerical Model for the PSI-1 Linear Plasma Device

Abstract

    1. 剖面受到径向输运的强烈影响
    1. 磁场强度影响离子速度温度,密度剖面。可以被解释为H的等离子体行为
    1. 电子温度受到磁场不均匀的影响,通过径向能量损失(电子温度和热传导的非线性依赖)
    1. 为了和实验接近,D=1m^{2}/s
    1. 被忽略的内部电场可能会影响径向输运

Introduction

装置图
    1. 工作参数:1e171e20,电子温度10eV,中性压1e-21Pa
    1. 探究不同径向输运模型和以及轴心磁场不均匀性的影响


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如何制定external 功率分布??

B2 boundary conditions

    1. 在wall一侧的哇网格,对所有物理量进行进行衰减长度假设(1cm)。
    1. 其他可行的边界条件包括常数物理量,也可以被选择,而不改变物理结果
    1. 边界条件只采用在外部格点的网格
    1. 靶板区域使用鞘层边界条件(假设u_{p}\geq c_{s}
    1. 能量传输因子\beta_{e}=4.0, \beta_{i}=2.5
    1. 令密度梯度为零
    1. 其他条件,例如只有的粒子流流出(\beta_{e}=\beta_{i}=1,u_{p}=c_{s})
    1. 装置对称轴的采用的边界条件为径向梯度为0

Radial Transport

    1. 跨场输运被认为是反常输运
    1. 输运系数有常数和bohm型的
      D_{B}=T_{e}[eV]/16B[T] m^{2}.s^{-1}
    1. D_{i} \approx1 m^{2}.s^{-1}
    1. D_{i}=const= [0.5m^{2}/s, 1.0 m^{2}/s]
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Deuterium plasma

    1. gas influx rate of F_{D_{2}}=2.83 \times 10^{19} molecules/s
    1. source temperature of T_{e,source}=12eV
    1. pump rate 500l/s,3500l/s
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    1. 改变wall一侧径向衰长度对等离子体行为和径向等离子体剖面没有影响,在非常外侧的计算网格。
    1. F_{D_{2}}=2.83E19 molecules/s

Charged particles


Neutrals


2004- H.Kastelewicz

Plasma Modelling for the PSI Linear plasma Device

Abstract

    1. 计算了不同磁场的径向和轴向剖面
    1. 采用了多种径输运系数
    1. 和实验对比,发现中轴向等离子体磁场强度变化对等例子状态有显著影响

Introduction

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  • 1.轴向磁场的不均匀性对剖面有显著的影响
    1. 标准case在neutralizer plate具有磁场最小值(该区域靶板非常均匀)

Boundary conditions

    1. wall grid (including the inner anode surface),假设1cm的衰减长度
    1. neutralizer plate假设鞘层边界条件(u_{p}>c_{s}) ,能量传输系数(\beta_{e}=4.0,\beta_{i}=2.5)
    1. 密度梯度为零
    1. 沿着轴向的边界条件为没有径向梯度

Radial transport and plasma pro les


Parallel transport and axial plasma pro les

    1. 平行输运通过常规的经典系数(电子、离子的粘滞和热传导),但是,包含额外的热流限制
    1. 磁场位型对轴向电子剖面有显著影响


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2008- R.C. Wieggers

B2-EIRENE study of the effects of heating in a linear plasma device

    1. 辅助加热阻止等离子体束在到达靶板前被冷却
    1. RF假设在等离子注入位置,在靠近靶板位置,等离子束会损失大量的功率(例如,由于分子辅助复合)
    1. 欧姆加热在整个区域都可以有效的加热等离子体

Implementation of heating scenarios

    1. RF 加热靠近等离子体源被考虑,通过增加等离子束的温度(计算区域)
    1. 在入口,输入功率随着电子温度(T_{e}增加)
    1. 忽略平行热传导
    1. 欧姆加热通过使用简单的模型对电子热传导进行模拟
    1. 不通过求解泊松方程给定边界电势
      -6. 我们确定,强磁场导致hall参数的显著增加,假设电流严格平行于磁场
    1. 假设靶板和一个垂直平面是一个等势面
    1. 径向电流密度分布完全依赖沿着磁场的的平行电感
    1. 不描述偏压
    1. 由于\delta_{||}~T_{e}^{3/2}电流密度峰值在束的中心。在电子温度最低的位置场线欧姆加热的是最高的
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Conclusions

    1. RF加热,在靶板附近电子温度是1.5eV,而欧模加热,温度这更低在1eV左右。靶板温度在RF功率更加敏感
    1. 欧姆加热的温度剖面更平和。
    1. 在轴向欧模加热产生一个常数温度在一个更大的距离
    1. 没有信号表明电流变窄

2007-M.Baeva-JNM

B2-EIRENE simulation of plasma and neutrals in MAGNUM-PSI

    1. 修改gas-puffing,pump rate,等离子体参数
    1. 脱靶等离子体被实现
    1. 等离子体密度对于高中性密度(1-5\times 10^{20}m^{-3}),靶板的粒子流~10^{24}m^{-2}/s
    1. 等离子体热流~10MW.m^{-2}
    1. 由于D分子的分离和解离和电荷交换/弹性碰撞,由于电子和离子冷却在靶板附近显著降低

Introduction

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    1. 3T
    1. 等离子体密度,电子和离子温度已经在径向归一化(固定峰值)
    1. 平流流速度的衍生设置为0
    1. 在靶板设置为sheath boundary
    1. 能量传输因子4.0、2.5
    1. 在wall side grid 1cm的衰减长度
    1. 轴向应用0的径向梯度
    1. 热流和动量流限制分别为:0.2 and 0.5
    1. 径向输运为反常输运。D_{i}=0.5m^{2}/s,\chi_{e,i}=1m^{2}/s, 离子粘滞0.2m^{2}/s
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2012-C. Salmagne

Abstract

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2019- Karol


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