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溅射(Sputtering)

溅射(Sputtering)

作者: MrBeanPlating | 来源:发表于2018-11-07 16:04 被阅读0次

    一、溅射的定义

         利用带电荷的的阳离子在电场中加速后达到一定的动能特点,将离子引向预被溅镀的的物质制成的靶材电极(阴极),入射离子在与靶材表面原子的碰撞过程中,通过动量的转移,将后者溅射出来,这些被溅射出来的原子沿着一定的方向射向底材,从而实现物质的溅射沉积。

    图:溅射示意图

         溅射是高能轰击粒子(离子)与靶材原子间动能/动量的传递的结果。原因(证据):

    1)溅射产物粒子以一定的空间角发射,且与入射离子的方向有关;

    2)单个入射粒子轰击出的产物粒子数与入射离子的能量/质量有关,且均可用弹性碰撞理论解释;

    3)溅射产物粒子的平均速度远大于蒸发粒子的速度。

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