名词
COT：coater(涂胶）
EXP：exposure（曝光）
DEV：developer（显影）
REG：registration 、overlay （套刻）
CD:critical dimension （关键尺寸）
INSP:inspection （光学显微镜目检）
RDA:realtime defect analysis （即时缺陷分析）
Photo process and metrology and defect basic relationship
名词
COT：coater(涂胶）
EXP：exposure（曝光）
DEV：developer（显影）
REG：registration 、overlay （套刻）
CD:critical dimension （关键尺寸）
INSP:inspection （光学显微镜目检）
RDA:realtime defect analysis （即时缺陷分析）
Photo process and metrology and defect basic relationship
名词 COT：coater(涂胶） EXP：exposure（曝光） DEV：developer（显影） REG：...
Semiconductor metrology is a critical discipline in the p...
Metrology The world is about to get a new way to measure ...
量测 metrology 常见的光刻量测有以下几种 Thickness (厚度） REG=registration...
一．定义： 中国计量认证简称“CMA”,英文译名为“China Metrology Accreditation”的...
Application Example: Photo OCR Photo OCR = Photo Optical ...
BSMI认证是台湾经济部标准检验局的英文“Bureau of Standards, Metrology and...
中国计量认证简称“CMA”，是China Metrology Accreditation的英文缩写，所有对社会出具...
The photo is a family photo which was taken during a Spri...
Magic filter-photo can optimize the beauty of the photo, ...
本文标题：Photo process and metrology and
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