这种 etc 存储单元属于 65 纳米的存储器， 65 纳米是现在世界上最小的存储单元，一般需要 14 纳米以上的光刻机才能够生产出来。但是 DDR5 内存芯片设计了比这个更小尺寸的晶体管，因此只能用 10 纳米以内的光刻机才能够保证良品率。
光刻机也成为光学投影曝光机，是一种重要的半导体制造设备。光刻机通过使用光学投影技术在半导体晶圆上制造危险的图案和结构，以实现集成电路的制造。光科级的主要组成部分包括光源、凸透镜、眼膜投影、光学系统和显影系统。在光刻过程中，光源产生的光线经过涂透镜和眼膜后被聚焦到半导体晶圆表面上，并形成微细的图案和结构。随着科技的发展，光刻级的分辨率不断提高，可以制造出更小的微观结构和更高的集成电路。目前，光刻机已成为半导体制造中最重要的设备之一，广泛应用于芯片生产、显示器生产、 LED 生产等领域。
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