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UnityTips 之 显示模式

UnityTips 之 显示模式

作者: 暴走TA | 来源:发表于2019-10-04 17:46 被阅读0次

简介: unity 的scene窗口为我们提供了多种显示模式,官方的全局光照部分只讲了一部分,这里做了补全。我们来看一下吧。
版本:2018.4.2
官方手册:

显示模式

打开位置

在scene窗口的左上角,点击Shaded标签便会弹出很多显示模式,这里逐一翻译一下。

ShadingMode 光照模式

  • Shaded 着色(我们一般预览效果用的正常模式)


    Shaded模式
  • WireFrame 线框模式


    线框模式
  • ShadedWireframe 着色加线框模式


    着色加线框模式

Miscellaneous 杂项

  • ShadowCascades 阴影级联


    阴影级联2
阴影级联4

在projecting里设置级联


级联设置
  • Render Paths 渲染路径


    渲染路径
  • AlphaChannel alpha通道(透明通道)


    透明通道
  • Overdraw 重绘


    重绘
  • Mipmaps mipmap


    贴了一张漫反射图做区分
  • Texture Streaming 贴图流
    这是一个动态过程

  • Sprite Mask 精灵遮罩


    正常模式
    精灵遮罩模式

Deferred 延迟渲染

  • Albedo 漫反射
  • Specular 高光
  • Smoothness 光滑度
  • Normal 法线

Global Illumination 全局间接光

不烘焙是看不见的,需要先烘焙一下,且要勾选Realtime Lighting

  • Systems 系统(实时光贴图分组)
    预计算阶段会通过烘焙设置和灯光参数自动拆分物体到不同的系统(例如使用同一个实时光贴图的物体归为一组)。这样做可以在更新间接光时使用多线程并提供优化。下图用颜色显示了不同的分组。
系统
  • Clustering 簇
    Enlighten使用分簇阶段产生的簇进行间接光计算。生成的簇可能会比灯光的图的像素大(这个比例是由LightmapParameters里的Culster Resolution 参数决定的。如果设置的不正确,多边形转换成的簇将会占用大量内存)。如果你烘焙时发现过高的内存占用,或过长的烘焙时间,可能是由于场景中的静态物体被切分的过于多造成的。
  • Lit Clustering 灯光簇
    和上面的簇是一样的,只不过叠加了实时GI
灯光簇
  • UV Charts UV表
    显示的是优化过的预计算实时GI时要用到的uv分布。这是在预计算过程中自动生成的。它会在预计算阶段将要完成时显示出来。这个模式可以帮助你确定模型UV的缩放(使用灯光图的分辨率参数可以改变缩放)。这个视图对判定实时光分辨率也有帮助。每一个UV块使用不同的颜色。
UV表

Realtime Global Illumination 实时全局间接光

不烘焙是看不见的,需要先烘焙一下,且要勾选Realtime Lighting

  • Albedo 计算实时光时用到的漫反射
漫反射原图
实时间接光用到的漫反射颜色
  • Emissive 计算实时光时用到的自发光


    自发光
  • Indirect 间接光


    间接光
  • Directionality 重要的直接光光照方向


    直接光光照方向

Baked Global Illumination 烘焙的全局光

需要烘焙一下 不然看不到正常的数据

  • Baked Lightmap 烘焙的灯光图 棋盘格代表了灯光的图的分辨率


    烘焙的灯光图
  • Directionlity 烘焙的灯光方向图


    光照方向
  • Shadowmask 阴影遮罩


    阴影遮罩
  • Albedo 烘焙时使用的漫反射


    漫反射
  • Emissive 烘焙时使用的自发光


    自发光
  • UV Charts UV 块

UV表
  • Texel Validity 像素校验
    这个模式显示了可以看到背面的像素。在灯光烘焙阶段,unity 从每个像素发射射线。如果射线碰到了多边形的背面,那么这个像素被标记为错误的。因为像素射线第一次不应该碰到多边形背面。unity使用其临近的正常像素取代错误像素。你可以修正这个操作,在BackfaceTolerance 参数里(LightmapParameters>General GI)。
像素矫正
  • UV Overlap UV重叠
    当UV块距离太近时,其像素值在GPU采样灯光贴图时容易影响到其他uv块。这会产生不好的影响。这个模式可以帮助你确定里的太近的uv块。在在你分析uv问题时很好用
UV重叠
  • Baked Lightmap Culling 烘焙的灯光贴图剔除


    烘焙的灯光贴图剔除
  • Lightmap Indices 顶灯图索引


    灯光图索引
  • Light Overlap 灯光重叠
    这个模式可以让你看到是否所有的静态灯光都被烘焙到了ShadowMask上。如果关卡中的一个区域被四个以上的静态灯光照亮,超出的灯光将被做成烘焙光并被标记为红色。这个操作的意义不在于实际被照亮的表面,而是在于灯光体积的交叉。因此,即使在下面的截图中,貌似网格上的聚光灯没有重叠,四个聚光灯的椎体最终也会与直射光在地面下方重叠。


    灯光重叠

Material Validation 差值校验

Validate Albedo 校验漫反射


校验漫反射

Validate Metal Specular 校验金属高光


校验高光流程漫反射

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